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VC真空均溫散熱器介紹
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  • VC真空均溫散熱器（Vapor Chamber Heat Sink）是一種基于相變傳熱原理的散熱裝置，廣泛應用于電子設備、通信、LED照明以及計算設備等領域，以滿足日益增長的高功率散熱需求。### 結構與原理VC散熱器由真空密封腔體構成，內部填充少量揮發性工作液體（如水或乙醇），并設計有微米級毛細結構（如銅粉燒結層或微槽道）。其工作原理分為三步：1）熱量通過接觸面導入腔體底部，液體受熱蒸發為氣體；2）蒸汽在真空環境下快速擴散至低溫區域（冷凝端），釋放潛熱后重新液化；3）液體通過毛細力回流至熱源端，形成持續循環。這種相變傳熱方式的導熱系數可達傳統銅材的數百倍，實現熱量快速均勻分布。### 技術優勢1. **均溫性**：二維平面散熱結構使熱源表面溫差小于3℃，避免局部過熱； 2. **輕薄緊湊**：厚度可控制在0.3-3mm，適應超薄電子設備空間限制； 3. **靈活適配**：支持異形定制，可覆蓋復雜熱源區域； 4. **靜音耐久**：無運動部件，理論壽命超過10萬小時。### 應用場景在智能手機中，VC散熱器可降低5G芯片峰值溫度達15℃；在數據中心，多腔體VC模塊能承載300W以上熱功耗；新能源汽車領域，其耐高溫特性（工作范圍-50℃~150℃）有效保障電池組與電控系統穩定性。隨著液冷技術的融合創新，下一代復合式VC散熱器將突破2000W/m·K導熱極限，為AI芯片、計算等前沿領域提供關鍵熱管理解決方案。

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